真空井式坩埚炉的结构及参数说明
真空井式坩埚炉是由氧化锆坩埚或者氧化炉坩埚。工作温度区间800℃至1600℃。该系列设备的控制系统，具有安全可靠，操作简单，控温度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产。 真空井式坩埚炉以进口含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，具有真空装置，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
主要用途：高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。
技术参数
产品型号 afd-2-17tp
工作电源 ac220v 50/60hz
炉膛尺寸 外径150x内径130x高200mm
额定功率 ≤6kw
外形尺寸 450x550x650mm
重量 70kg
升温快速度 0~30℃/min（建议不超过20℃）
产品特点 可装真空装置，能在多种气氛下工作，50段程序控温
加热元件 优质硅钼棒
常用温度 ≤1500℃
高温度 1600℃
控温方式 50段智能化程序pid模糊控制
恒温度 ±1℃
控温仪表 智能温控仪
密封方式 全封闭
炉膛 氧化铝多晶纤维炉膛，设计合理，经久耐用，保温性能好，节能
测温元件 b型热电偶
炉门结构 上开式
主要配件 密封法兰1套，坩埚1个，真空泵1台，高温手套1副,热电偶1根等
大真空限 ≤0.1mpa
真空箱式炉 气氛管式炉 大型退火马弗炉
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