ERM-EG001 硅中注入的锑（Sb原子的面密度、同位素数量比）
erm-eg001 硅中注入的锑（sb原子的面密度、同位素数量比）
该样品是一个10毫米×10毫米的硅片，具有热生长的表面氧化物层和注入能量为400kev的sb离子。
品牌：irmm标准品/erm标准物质
crm code（货号）：erm-eg001
description：antimony implanted in silicon (areal density of sb atoms, isotope amount ratio)
描述：硅中注入的锑（sb原子的面密度、同位素数量比）
net mass（产品规格）：1.5g
erm-eg001 硅中注入的锑（sb原子的面密度、同位素数量比）
使用说明：
sb原子的面密度的认证值适用于尺寸小于0.15 mm2的芯片表面部分。如果使用较小的尺寸进行分析，则必须分析足够数量的不同位置，以确保具有代表性的采样。crm的植入侧是抛光的、反射的一侧。参考材料不得加热至150°c以上。
储存方法：材料应在干燥清洁的环境中储存在环境条件下。欧盟委员会不对材料在客户场所储存期间发生的变化负责，尤其是打开的样品。
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