辉光放电光谱仪的特点和应用

辉光放电分析(gda)于1968年*出现,初用于各种块状金属和合金的光谱化学分析。 这种分析方法不断地发展,尤其擅长于表面和涂层分析。与传统的激发技术相比,辉光放电技术的突出优点是能够表层分析样品的表层。
主要特点
1.涂(镀)层材料和均相材料化学成分的分析,痕量和微量合金元素的检测和测量
2.浓度分布测定和表层测量数据的定性/定量评价
3.测定被分析表面层内部的相相比
4.软件基于windows 2000环境,日常分析功能采用易用的软件界面,使用户能很快地熟悉仪器的使用。
5.分析软件具有强大功能并且灵活易用,具有许多适于用户的软件功能选项,如显示输出、数据传输和数据格式。
6.化学成分可以与其他特性,如被分析区域中的密度和质量分布同时测定
应用领域
块状样品分析
gda750可用于块状样品的分析(如金属合金的化学成分),为复杂基体材料的分析提供具有良好线性的工作曲线。
工艺过程佳化
通过比较涂(镀)层工艺过程(cvd,pvd)前后的表面特性,确保生产工艺过程佳化和大程度地避免废品浪费。
非导体材料和涂层
采用可选的射频光源(gda750辉光放电光谱仪)可以分析非导体材料和涂层,如玻璃,陶瓷,釉质和油漆涂层。
gda750可以配备60个以上的分析通道,并且能充分地满足高分辨率和高精度的分析要求。涂(镀)层的深度可测量至200um,表面分析和获得的分辨率达1个原子层。
适用于质量控制和材料研究
在金属分析领域中,辉光放电分析是浓度分析和表面分析理想的手段。表面处理工艺过程中,如表面渗碳硬化或渗碳热处理等,都可以通过分析被处理材料的表面和近表层区域实现质量控制。
采用浓度分布分析功能可以精确地测量涂(镀)层厚度及化学成分。对于传统的分析方法不能解决的材料分析问题,辉光放电光谱技术可以作为优先选用的方法。

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