纳米压印系统的原理
随着科技的进步和发展，人们从理论和实验研究中发现，当许多材料被加工为具有纳米尺度范围的形状时，会呈现出与大块材料完*不同的性质。这些特异的性质向人们展现了令人兴奋的应用前景。在开发超大规模集成电路工艺技术的过程中，如电子束与x射线曝光，聚焦离子束加工技术等。但这些技术的缺点是设备昂贵，产量低，因而产品价格高昂。商用产品的生产必须是廉价的、操作简便的，可工业化批量生产的、高重复性的；对于纳米尺度的产品，还必须是能够保持它所*有的图形的精确度与分辩率。
纳米压印系统可以实现微米和纳米尺度图形结构的复制加工，采用单面气压方式，有力保证了压印的均匀性，减少碎片的发生。中间聚合物转印则可以较大程度保护原始模具，延长使用寿命。
纳米压印系统是基于其机械压印原理，将具有纳米级尺寸图案的模板在机械力的作用下压到涂有高分子材料的衬底上，进行等比例压印复制图案的工艺。其实质就是液态聚合物对模板结构腔体的填充过程和固化后聚合物的脱模过程。其加工分辨力只与模版图案的特征尺寸有关，而不受光学光刻的*短曝光波长的物理限制。具有避免使用昂贵的光源及投影光学系统，不受光学光刻的*短曝光波长的物理限制和工艺简便等特点，其高精度、高分辨率、廉价的特点使其很可能成为下一代重要的光刻技术，一种重要的微纳米复制技术。
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