用高真空泵抽除单分子层气体所需的时刻
用高真空泵抽除单分子层气体所需的时刻
从前假定在常见的真空体系中，每立方厘米体积内露出在真空中的外表积至少(可能大得多)有1cm2，为了估量用泵抽除一单分子层所需求的时刻，就需求估量泵的容量。
在大多数真空体系中，抽速与每单位体积的比率介于1至10之间。为了便利，假定抽速(l/s) 10倍于以升为单位的体积.把这两个假定结合在一起，对每平方厘米露出于真空室的外表得出估量的抽速为10-2l/s。这10-21/s代表每秒抽除分子的速率为
dn/dt=3.3x1017p
所以，除掉单分子层的1015个分子所需求的时刻为
t=3x10-3/p,(s)
明显，在超高真空范围内，在如此低的压强下抽除单分子层气体是*不实践的。泵的寿数没有那么长。
真空体系全部烘烤的重要性
温度改变20℃,凝聚或吸附分子的压强，预计会添加10倍。
蒸汽压对温度的数据可知，如果温度从20℃升高到200℃,蒸汽压约添加105倍。这就是说，在较高温度用1s从体系中抽除的分子数和在较低温度下用一整天抽除的相同多.若在400℃的较高温度下进行烘烤，则可看到蒸气压数值比在室温下的数值添加108倍。这是1a与1s之比。
当然，加热的好处并不像用这种数量级所标明的那么显着。该抽气时刻要比1s长得多。但是，在升高的温度下接连抽数小时，便看出烘烤关于把分子从外表赶出来进入体系的体积中并被真空泵抽除是有用的。这些考虑阐明，尤其在加热周期开始时，有必要约束温度的上升速率，避免高真空泵过载。
抱负真空体系与实践真空体系之间在功能方面的显着差异
抱负真空体系与实践真空体系之间的功能差异可由一个随时刻改变的时刻常数v/s来阐明。明显，体积是常数，而且有许多材料标明，在所考虑的压强范围内泵的抽速相对地坚持恒定。
对时刻常数更进一步的研讨标明，体积变成了有必要被抽除的分子数目的指示器。附加的分子源将会阐明观测成果，这个分子源不在真空容器壁所围住的空间里。
在露出于大气的真空体系中，压强下降如此俊的首要原因是，要取得低压强有必要花许多时刻抽除停留在曾露出过的体系外表上的气体分子。这些气体分子只有它们正在体系外表间的空间运动时，才干被真空泵抽除。
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在露出于大气的真空体系中，压强下降如此俊的首要原因是，要取得低压强有必要花许多时刻抽除停留在曾露出过的体系外表上的气体分子。这些气体分子只有它们正在体系外表间的空间运动时，才干被真空泵抽除。
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